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電路板油墨 光刻膠 特種油墨

集成電路用光刻膠

 

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現(xiàn)在咨詢(xún)

1.特別說(shuō)明:

具體型號(hào)說(shuō)明書(shū)及相關(guān)檢測(cè)報(bào)告請(qǐng)前往下載中心下載。

2.應(yīng)用領(lǐng)域:

集成電路領(lǐng)域的具體應(yīng)用包括:集成電路芯片制作(涉及金屬層、鈍化層、離子注入層的光刻);集成電路先進(jìn)封裝等。

3. 技術(shù)參數(shù):

集成電路用光刻膠主要技術(shù)參數(shù):

集成電路用光刻膠系列主要包括: RD-4000、RD-6000等系列,不同系列光刻膠的主要技術(shù)參數(shù)如下:

序號(hào)

產(chǎn)品序列

主要參數(shù)

1

RD-4000系列


水分:<0.5%;顆粒(0.5um顆粒,個(gè)/ml)<100;痕量金屬(K、Na、Fe,ppb):<50;膜厚:1.0~4.5um;分辨率:0.4um(i-line曝光)


2

RD-6000系列


水分:<0.5%;顆粒(0.5um顆粒,個(gè)/ml)<100;痕量金屬(K、Na、Feppb):<100;膜厚:3.0~15um;分辨率:0.65um(i-line曝光)


集成電路用光刻膠主要技術(shù)參數(shù):

集成電路用光刻膠系列主要包括: RD-4000、RD-6000等系列,不同系列光刻膠的主要技術(shù)參數(shù)如下:


序號(hào)

產(chǎn)品序列

主要參數(shù)

1

RD-4000系列


水分:<0.5%
顆粒(0.5um顆粒,個(gè)/ml)<100
痕量金屬(K、Na、Feppb):<50
膜厚:1.0~4.5um
分辨率:0.4um(i-line曝光)


2

RD-6000系列


水分:<0.5%
顆粒(0.5um顆粒,個(gè)/ml)<100
痕量金屬(K、NaFe,ppb):<100
膜厚:3.0~15um
分辨率:0.65um(i-line曝光)


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